Țintă de pulverizare cu bor

Descrierea țintei de pulverizare cu bor

Procesul de pulverizare este în principal de a depune o peliculă subțire de metal sau oxid de puritate ultra-înaltă pulverizată pe un alt substrat solid și de a controla îndepărtarea și conversia materialului țintă într-o fază de gaz/plasmă direcționată prin bombardament ionic. Borul este un element cu abundență scăzută în sistemul solar și în scoarța terestră. Este un conductor slab la temperatura camerei și un bun conductor la temperatură ridicată. Ținta de pulverizare cu bor are proprietăți fizice și chimice excelente, punct de topire ridicat, cea mai mică dimensiune medie a granulelor, rezistență la coroziune la temperaturi ridicate, durabilitate bună, conductivitate electrică bună și performanță la costuri ridicate. Este un proces de depunere chimică de vapori (CVD) și depunere fizică de vapori (PVD)) al materialelor de preparare excelente. Țintele de pulverizare cu bor sunt utilizate pe scară largă, în principal în industria nucleară, industria acoperirii sticlei, industria informațiilor electronice, industria chimică, biomedicină, industria aerospațială, produse decorative de ultimă generație și industria de topire a metalelor etc.

Specificații țintei de pulverizare cu bor:

Imagini țintă pentru pulverizare cu bor:

Tag-uri populare: țintă de pulverizare cu bor, furnizori, producători, fabrică, personalizat, en-gros, preț, cotație, de vânzare