Prezentare generală

Obiectivul Bor B este o țintă metalică utilizată frecvent în industria semiconductorilor . puritatea acesteia poate ajunge de obicei la mai mult de 99 . 99% (4n), iar conținutul impurităților (cum ar fi O, C, Fe, etc. .) este extrem de scăzut, ceea ce evită contaminarea filmului depus și asigură performanța dispozitivului { Adaptat la procese de preparare de înaltă calitate, cum ar fi sputtering de magnetron, evaporare a fasciculului de electroni, depunerea stratului atomic (ALD), etc. ., pentru a îndeplini cerințele de precizie ale diferitelor scenarii. În calitate de furnizor de metale neferoase, cu mai mult de 20 de ani de experiență profesională, Fanmetal poate oferi clienților și alte ținte de înaltă puritate și rentabilă de sputtering metalic, cum ar fiȚinte de sputtering de nichel, ZR702 Target de zirconiu, Țintă de crom, etc .

Caracteristici

Proprietăți fizice excelente

Are un punct de topire ridicat, densitate mică, duritate ridicată, capacitate puternică de absorbție a neutronilor și poate menține în continuare o stabilitate structurală bună în medii la temperaturi ridicate .

Proprietăți electrice și optice

Transparența și conductivitatea optică sunt foarte bune, ceea ce nu poate fi utilizat doar pentru a face acoperiri cu film subțire optic de înaltă calitate, ci și pentru a regla proprietățile conductive ale materialelor .

Proprietăți chimice bune

Nu reacționează cu ușurință cu apă, oxigen și acid la temperatura camerei și nu suferă cu ușurință reacții chimice atunci când este utilizat în combinație cu alte materiale țintă (cum ar fi metale și oxizi), asigurând astfel performanța de film stabilă .

Capacitate puternică de procesare a modelării

Mărimea țintei poate fi personalizată în funcție de cerințele echipamentului, compoziția este extrem de controlabilă, ceea ce poate asigura o eficiență ridicată a sputteringului și poate fi combinată cu o varietate de materiale de substrat pentru a forma o peliculă subțire cu o adeziune puternică .

Specificații

Material	Bor (b)
Puritate	Mai mare sau egal cu 99,99%(4N)
Diametru	φ20mm-φ300mm
Grosime	2mm ~ 20mm
Densitate	2,34g/cm³
Punct de topire	2076 grad
Duritate	2000-2500 Hv
Modul elastic	400-450 gpa
Suprafaţă	Curățare lustruită, alcalin, măcinare,
Standard	ASTM B853
Certificare	ISO 9001

Aplicație

1. câmp semiconductor

În fabricarea dispozitivelor semiconductoare, cum ar fi tranzistoare și diode, ținta Boron B este utilizată pentru a furniza dopanți, care pot controla cu exactitate proprietățile electrice ale materialelor semiconductoare, cum ar fi cristale de siliciu, obținând astfel un control precis al proprietăților conductoare ale dispozitivului .

Pregătirea filmelor subțiri de oxid de bor-silicon ca straturi izolatoare sau straturi de pasivare ale dispozitivelor semiconductoare, folosind proprietățile barierei de difuzie ale borului pentru a îmbunătăți fiabilitatea dispozitivului .

2. Câmp de înregistrare magnetică

Preparation of high-performance magnetic films: Boron targets can be used to prepare magnetic recording films with high storage density, low noise, and good thermal stability. In magnetic recording media, the addition of boron can adjust magnetic performance parameters to meet the requirements of modern magnetic storage technology for large capacity, high speed, and high reliability.

3. câmp aerospațial

Acoperirea boridei preparată de țintele de bor de înaltă puritate are un punct de topire extrem de ridicat și o rezistență la șocuri termice și poate fi utilizată pentru duze de rachetă și acoperiri de suprafață a lamei de turbină, ceea ce ajută la reducerea greutății componentelor, în timp ce rezistă la temperaturi extrem de ridicate și la coroziunea gazelor .

4. acoperire rezistentă la uzură
Boron B Target can form hard coatings on the surfaces of tools, molds, mechanical parts, etc., through processes such as physical vapor deposition or chemical vapor deposition. This coating has the characteristics of high hardness, high wear resistance, and low friction coefficient, which can significantly improve the service life and working efficiency of these components and reduce production costs.

PROCES

① Purificarea fizică este efectuată pentru prima dată pentru a asigura un conținut de impuritate scăzută, care să conducă la depunerea de filme de înaltă performanță .

Pulberea de bor de înaltă puritate este supusă unei sinterizări presante la rece sau presare izostatică fierbinte, iar corpul verde este presat uniform, iar densitatea poate ajunge mai mult de 99%.}

Tăierea și șlefuirea instrumentelor și șlefuirea și lustruirea sunt utilizate pentru a îmbunătăți precizia dimensională și pentru a reduce rugozitatea suprafeței .

④ Enealing Tratamentul se realizează într -o atmosferă de vid pentru a elimina stresul intern în timpul procesului de modelare și a stabiliza structura cristalului .

Controlul final al calității îndeplinește standardele ISO9001 și îndeplinește cerințele stricte ale clienților .

Poze

Boron Sputtering Target

Boron Target

VIDEO

De ce să ne alegem

Soluție unică

După ce am primit întrebări de la clienți, putem oferi clienților servicii unice, cum ar fi oferta de produse, procesul de producție, acceptarea produsului, transportul și livrarea și serviciul după vânzare . în timp ce asigurăm calitatea produsului, putem îndeplini și cerințele diferite de personalizare ale clienților .

Prețuri competitive

Prețurile noastre sunt foarte rezonabile în comparație cu alți furnizori de peste mări și sunt demne de calitatea produsului nostru . Mai mult, toate produsele noastre au obținut certificarea ISO9001 . FanMetal pot oferi clienților de peste mări cele mai eficiente produse metalice nepersoase.}

Echipament avansat

Avem mașini-unelte profesionale CNC, mașini de rulare, cuptoare de sinterizare, mașini de tăiat, echipamente de sudare și echipamente de tratare a suprafeței . Mai mult, tehnicienii noștri pot proiecta desene și personalizează producția în conformitate cu cerințele clienților . pot merge și către clienții de peste mări pentru a îndeplini instalarea la fața locului .

Transport global

Cooperăm cu companii de logistică globală, cum ar fi UPS/DHL ., bazându-ne pe dispunerea depozitului de peste mări și pe echipa locală de autorizare vamală, putem evita în mod eficient barierele comerciale, să scurtăm ciclul de livrare, să asigurăm siguranța și sosirea la timp a mărfurilor și să reducem semnificativ costurile de exploatare și să îmbunătățim satisfacția clienților .}

CAZ

Obiectiv de sputter rotund de bor, 99,5% ținte de sputtering bor, țintă de sputtering de bor la Singapore

La începutul lunii februarie, ei au spus că au primit produsele noastre de bor Round Sputter Target și au lăudat calitatea procesării și viteza de livrare . am avut o discuție detaliată cu privire la detaliile de ordonare ale produsului înainte de transport . cele două părți au ajuns la un consens, și a stabilit o relație de cooperare foarte bună . Fanmetal, a fost întotdeauna angajat pentru a oferi înalt nivel de cooperat a continuat să -și îmbunătățească tehnologia de producție și atitudinea de servicii . Puteți comanda produsele noastre cu încredere .

Calificarea produsului

ISO13485

Tag-uri populare: Boron B Target, furnizori, producători, fabrică, personalizat, en -gros, preț, cotație, de vânzare