Țintă de pulverizare

Țintă de sputtering de yag

Ținta de sputtering de yag este o țintă de sputtering compusă din yttrium, aluminiu și granat, realizată de obicei prin procesul de metalurgie cu pulbere, care poate fi utilizat pe scară largă în

Adăugați la anchetă
Țintă de zirconiu

Ținta de zirconiu poate fi sputter pentru a produce o puritate mai mare și o acoperire decorativă mai ornamentală, utilizată în principal în produsele de uz casnic, aparatele de uz casnic,

Adăugați la anchetă
Țintă de crom

Chromium Target este o țintă de sputtering realizată din material de crom de înaltă puritate prin metalurgie sau topire a pulberii . poate spulta filme de crom de înaltă performanță pentru aplicare

Adăugați la anchetă
Plăci de sputtering cu oxid de niobiu

Plăcile de sputtering cu oxid de niobium sunt ținte realizate din materiale de oxid de niobiu de înaltă calitate, utilizate în principal pentru a produce filme reflectorizante extrem de transparente

Adăugați la anchetă
Țintă din aliaj de titan și aluminiu de înaltă puritate

Țintă din aliaj de aluminiu de înaltă puritate este adesea realizată din proces de metalurgie a pulberilor, cu proprietățile sale fizice și chimice excelente poate fi utilizată pe scară largă într-o

Adăugați la anchetă
Ținte de cupru de înaltă puritate

Țintele de cupru de înaltă puritate sunt ținte de proces PVD realizate din materiale de cupru de înaltă puritate după metalurgia pulberilor sau procesul de topire, utilizate în principal în industria

Adăugați la anchetă
Țintă de oxid de niobiu

Ținta de oxid de niobiu este în general realizată din material pentoxid de niobiu prin prelucrarea metalurgiei pulberilor sau tehnologia de pulverizare cu magnetron. Are densitate mare, puritate

Adăugați la anchetă
Ținte de pulverizare cu oxid de niobiu Nb2O5

Țintele de pulverizare cu oxid de niobiu Nb2O5 au o serie de proprietăți excelente, cum ar fi puritate ridicată, punct de topire ridicat, stabilitate bună la temperatură ridicată, rezistență

Adăugați la anchetă
99,95% Ținte de crom Cr

Țintele de crom 99,95% sunt în general produse prin topire în vid sau prin procesul de presare izostatică la cald, care poate pulveriza filme de înaltă calitate, cu puritate ridicată, aderență

Adăugați la anchetă
Țintă TiAl Aluminiu Titan

Titan Aluminium TiAl Target Descriere Titan Aluminium TiAl Target este un material țintă compus din două elemente, titan și aluminiu. Este utilizat în principal la fabricarea de circuite integrate,

Adăugați la anchetă
99,9% țintă cu bor metal

99,9% Bor Metal Target Descriere 99,9% Bor Metal Target este un fel de material țintă semiconductor de înaltă puritate, de înaltă densitate, care este realizat în principal prin topirea pulberii,

Adăugați la anchetă
Ținte din tungsten cu tub cu raze X

Țintele din tungsten cu tuburi cu raze X Descriere Țintele din tungsten cu tuburi cu raze X sunt realizate în principal din material din foi de wolfram și sunt fabricate folosind tehnici de tăiere

Adăugați la anchetă

Suntem cunoscuți ca unul dintre cei mai importanți producători și furnizori de ținte de pulverizare din China. Dacă aveți de gând să cumpărați o țintă de pulverizare de înaltă calitate la preț competitiv, bine ați venit să obțineți o ofertă de la fabrica noastră. De asemenea, este disponibil un serviciu personalizat.

(0/10)